Substrat o niskim rozpraszaniu

. Użyj podłoża o kształcie klinowym dla dzielnika wiązki, aby zapobiec efektom odbicia wstecznego. CaF2 (fluorek wapnia) i MgF2 (fluorek magnezu) są głównie używane w UV i IR ze względu na wysoką przepuszczalność. Nasze zaawansowane przetwarzanie zapewnia niską chropowatość powierzchni (mikroskopowe nierówności) oraz precyzyjną dokładność powierzchni (płaskość całej powierzchni).